در جریان رویداد IEDM که توسط سازمان IEEE برگزار شد، مارتین ون دن برینک، مدیرعامل شرکت ASML اطلاعات بیشتری از رویکرد این کمپانی در خصوص آینده نیمه‌رساناها را در اختیار حضار قرار داد. وی در خصوص نگاه دو کمپانی ASML و اینتل برای آینده صحبت کرد. به نظر می‌رسد اینتل با نگاهی دوباره به گذشته قصد دارد یکی از محصولات دو سال قبل خود را دوباره در دستور تولید قرار دهد.
شایدی یکی از جالب‌ترین نکات در خصوص این مراسم این واقعیت باشد که اینتل به سختی در تلاش است تا فرآیند تولید مناسبی را برای تولید این محصولات طراحی کند. این یعنی احتمالا سرانجام مشکلات اینتل برای تولید تراشه‌هایی با لیتوگرافی 10 نانومتری به پایان رسیده و ضمن معرفی فناوری‌های جدیدتر ++10nm و +++10nm احتمال اینکه برخی محصولات قدیمی خود را نیز مجددا با این فناوری‌ها به تولید برساند وجود خواهد داشت.
اینتل در حال حاضر از لیتوگرافی +10nm برای تولید پردازنده‌های سری Ice Lake استفاده می‌کند و بنابراین دو فناوری جدید ++10nm و +++10nm می‌تواند به معنی فرکانس‌های بالاتر و عملکرد بهتر باشد. نسخه فعلی لیتوگرافی +10nm از نظر فرکانس چندان توانمند نبوده و تنها یکی از پردازنده‌های سری Ice Lake فرکانس 4 گیگاهرتزی را ارائه می‌دهد. این در حالیست که پردازنده‌های 4 نانومتری اکنون قادرند فرکانس‌های بالایی نظیر 5 گیگاهرتز را نیز ارائه دهند. ظاهرا در لیتوگرافی‌های جدید تلاش شده با به کارگیری ترانزیستورهای سریعتر این مشکل تا حد زیادی برطرف شود.
اینتل همچنین گره‌های جدیدی را توسعه می‌دهد که احتمالا تا ده سال آینده در محصولات این کمپانی به کار گرفته خواهند شد. تصویر منتشر شده در این مطلب مربوط به لیتوگرافی 1.4 نانومتری است که طبق نقشه راه اینتل در سال 2029 ارائه خواهد شد. این گره در هر میلی‌متر مربع 1.6 میلیارد ترانزیستور را ارائه می‌دهد. قابل ذکر است که در بسیاری از پردازنده‌های 14 نانومتری سری Broadwell نیز این تعداد ترانزیستور دیده می‌شد.
منبع: techpowerup
