سخت‌افزار

تلاش کمپانی TSMC جهت تولید انبوه لیتوگرافی 5 نانومتر در سال 2020 میلادی

تلاش کمپانی TSMC جهت تولید انبوه لیتوگرافی 5 نانومتر در سال 2020 میلادی

بر طبق اطلاعات به دست آمده از رسانه DigiTimes، کمپانی TSMC در تلاش است تا فرآیند تولید انبوه فناوری ساخت 5 نانومتر (5nm) خود را در ماه مارچ سال 2020 میلادی شروع کرده و نودهای جدید خود را جهت عرضه به بازار آماده سازد. تاریخ فوق از آن جهت حائز اهمیت است که کمپانی TSMC در تلاش است تا تاریخ عرضه نودهای جدید خود را با آمادگی کمپانی‌های فعال در این زمینه جهت تعبیه سازی آن‌ها در محصولات آینده خود یکسان کرده و فاصله عرضه تا استفاده را به حداقل ممکن کاهش دهد. با توجه به اینکه که فرآیند طراحی و تولید انبوه فناوری ساخت 5 نانومتر درست دو سال پس از لیتوگرافی 7 نانومتر آغاز شده است، بسیاری بر این عقیده‌اند که فناوری ساخت فوق در تلاش است تا مسیر قانون مور را مجدداً در پیش گیرد.

طراحی و ساخت فناوری ساخت 5 نانومتر بر مبنای لیتوگرافی Extreme Ultra-Violet (به اختصار EUV) کمپانی TSMC انجام پذیرفته و بر طبق گمانه‌زنی‌های گوناگون قرار است تا با استفاده از نوع ترانزیستورهای FinFET فعلی، بهبودها و مزیت‌های بسیار فراوانی در حوزه‌هایی نظیر سرعت، میزان انرژی مصرفی و چگالی را نسبت به فناوری ساخت 7 نانومتر به ارمغان آورد. انتظار می‌رود تا سرعت عملکرد و پتانسیل نهایی لیتوگرافی جدید با افزایش 15 درصدی همراه شده و این مقدار در مورد چگالی ترانزیستورها برابر با 80 درصد می‌باشد که خبر بسیار فوق‌العاده‌ای برای همگان محسوب می‌شود. کاهش چشمگیر توان و میزان انرژی مصرفی به میزان 30 درصد نیز حاضر بوده و از جمله دیگر مزیت‌های لیتوگرافی جدید و تازه‌نفس 5 نانومتر به شمار می‌رود. بدون شک فناوری ساخت جدید و مدرن کمپانی TSMC در زمینه افزایش قابل توجه کارایی پردازشگرهای کامپیوتری تأثیرات بسیاری را با خود به ارمغان آورده و آینده درخشانی را در انتظار این صنعت قرار داده است. نظر شما چیست؟ دیدگاه‌های خود را در قسمت نظرات با ما به اشتراک بگذارید.

منبع: TechPowerUP

نوشته های مشابه

دیدگاهتان را بنویسید